📂
Корпоративный профиль.
Знакомьтесь: ASML 🔝
нидерландский производитель литографического оборудования
⏳
Краткая историяASML (Advanced Semiconductor Materials Lithography) была создана
1 апреля 1984 г. как совместное предприятие Philips и ASM International под названием ASM Lithography. Первой задачей компании
стала коммерциализация разработанного Philips пошагового литографа PAS 2000, однако первоначально проект испытывал дефицит заказов и инвестиций и едва пережил спад электронной промышленности начала 1990-х годов. Перелом произошел после получения крупных заказов Intel и IBM, развития партнерства с немецкой ZEISS и выхода на азиатский рынок; в дальнейшем название ASML перестало расшифровываться и стало самостоятельным брендом.
В 2000–2010-е годы ASML сделала ставку на экстремальную ультрафиолетовую литографию - EUV, разработка которой потребовала многолетнего сотрудничества с производителями оптики, лазеров, материалов и крупнейшими чиповыми фабриками. Компания инвестировала в EUV свыше
6 млрд долл. в течение более чем 17 лет - примерно вдвое больше, чем сопоставимые компании обычно расходовали на НИОКР за десятилетие. Сегодня ASML является
единственным в мире производителем серийных EUV-литографов, необходимых для массового выпуска
наиболее передовых логических микросхем и памяти.
🥊
Сила компанииЛитограф послойно переносит рисунок будущей микросхемы на кремниевую пластину, поэтому доступ к таким системам определяет возможность производить современные процессоры, память и ускорители искусственного интеллекта. По оценке, приведенной
журналом «Эксперт», ASML занимает около
91% мирового рынка литографического оборудования, тогда как доли Nikon и Canon составляют примерно
6 и 3% соответственно; при этом в сегменте EUV у компании фактически нет прямого серийного конкурента. Технологическое преимущество связано не только с отдельной машиной, но и с интеграцией источника EUV-излучения, оптики ZEISS, систем позиционирования, метрологии и программного обеспечения в единую производственную платформу.
Новое поколение High-NA EUV представлено системой
TWINSCAN EXE:5000 с числовой апертурой
0,55, длиной волны
13,5 нм и разрешением
8 нм. Она позволяет печатать за одну экспозицию элементы в
1,7 раза меньше, чем действующие NXE-системы, и повышать плотность транзисторов примерно в
2,9 раза; увеличение контрастности изображения на
40% должно сокращать количество дефектов и число операций многократного экспонирования. Платформа рассчитана прежде всего на логические процессы
2 нм и последующие поколения памяти, а переход к массовому применению High-NA EUV ожидается до конца этого года.
📈
Финансовая мощь и экономическая эффективностьВ 2025 г. чистые продажи ASML
выросли на
15,6%, с
28,3 млрд до 32,7 млрд евро, валовая маржа составила
52,8%, а чистая прибыль — около
9,6 млрд евро. Продажи новых систем достигли
24,5 млрд евро, сервисное обслуживание и модернизация установленного оборудования принесли еще
8,2 млрд евро, увеличившись на
26,2%. Расходы на исследования и разработки выросли на
9,2%, до
4,7 млрд евро, причем средства направлялись на EUV-системы NXE, платформы High-NA EXE, электронно-лучевую инспекцию, метрологию и программные решения.