В России разработают отечественную САПР для проектирования чипов 28 нм
Минпромторг России планирует в конце 2026 года запустить новую опытно-конструкторскую работу по созданию отечественной САПР для проектирования микросхем по техпроцессу 28 нм
Проект получил название «САПР Цифра-Р». Он станет вторым этапом создания российского маршрута проектирования для 28-нанометровых чипов
Первый этап должен завершиться к концу 2026 года. В МНТЦ МИЭТ пояснили, что новый проект продолжит эту работу и расширит набор отечественных инструментов для разработки чипов
Еще один этап запланирован на 2029 год. В рамках ОКР «Программа ПТМ-Про» предполагается создать систему приборно-технологического моделирования. Такое ПО используется для расчета физических и химических процессов при производстве полупроводников — от ионной имплантации и диффузии примесей до окисления кремния — и позволяет прогнозировать характеристики будущих компонентов
Разработка собственного ПО напрямую связана с планами России освоить производство микросхем по 28-нанометровому техпроцессу (на данный момент в России выпускаются чипы по более зрелым нормам — до 90 нм). В Зеленограде «НМ-Тех» при этом реализует проект фабрики «ФАБ-300», которая должна обеспечить освоение, в том числе, 28-нм технологии
Потребность в отечественных САПР резко выросла после 2022 года, когда крупные зарубежные разработчики такого ПО, включая Synopsys и Cadence, прекратили поддержку российских клиентов. Их инструменты используются на различных этапах проектирования современных микросхем
«САПР Цифра-Р» станет частью более масштабной программы. В 2026 году Минпромторг также планирует запустить разработку «САПР СВЧ-Р», аналоговой САПР «Аналог-Р» для техпроцессов вплоть до 130–65 нм, трехмерной системы приборно-технологического моделирования «ПТМ-3D», ПО для производства фотошаблонов до 90 нм и инструментов проектирования систем в корпусе
📸 Максим Горшенин
Макс | Телеграм
Минпромторг России планирует в конце 2026 года запустить новую опытно-конструкторскую работу по созданию отечественной САПР для проектирования микросхем по техпроцессу 28 нм
Проект получил название «САПР Цифра-Р». Он станет вторым этапом создания российского маршрута проектирования для 28-нанометровых чипов
Первый этап должен завершиться к концу 2026 года. В МНТЦ МИЭТ пояснили, что новый проект продолжит эту работу и расширит набор отечественных инструментов для разработки чипов
Еще один этап запланирован на 2029 год. В рамках ОКР «Программа ПТМ-Про» предполагается создать систему приборно-технологического моделирования. Такое ПО используется для расчета физических и химических процессов при производстве полупроводников — от ионной имплантации и диффузии примесей до окисления кремния — и позволяет прогнозировать характеристики будущих компонентов
Разработка собственного ПО напрямую связана с планами России освоить производство микросхем по 28-нанометровому техпроцессу (на данный момент в России выпускаются чипы по более зрелым нормам — до 90 нм). В Зеленограде «НМ-Тех» при этом реализует проект фабрики «ФАБ-300», которая должна обеспечить освоение, в том числе, 28-нм технологии
Потребность в отечественных САПР резко выросла после 2022 года, когда крупные зарубежные разработчики такого ПО, включая Synopsys и Cadence, прекратили поддержку российских клиентов. Их инструменты используются на различных этапах проектирования современных микросхем
«САПР Цифра-Р» станет частью более масштабной программы. В 2026 году Минпромторг также планирует запустить разработку «САПР СВЧ-Р», аналоговой САПР «Аналог-Р» для техпроцессов вплоть до 130–65 нм, трехмерной системы приборно-технологического моделирования «ПТМ-3D», ПО для производства фотошаблонов до 90 нм и инструментов проектирования систем в корпусе
📸 Максим Горшенин
Макс | Телеграм