⚡️ В 3000 раз быстрее: в России представили проект многолучевого литографа
Российские разработчики анонсировали проект электронного литографа для производства микросхем. Теоретически, он способен обрабатывать кремниевые пластины в 3 тысячи раз быстрее традиционных однолучевых аналогов
🔹Ключевой элемент – мультикатод. Он не расщепляет один луч (как в классических схемах), а сразу генерирует множество параллельных электронных пучков. Деталь уже изготовили и успешно испытали.
🔹Эффективность. Такая конструкция позволяет снизить энергопотребление, упростить систему и потенциально удешевить саму установку.
🔹Техпроцесс. В перспективе литограф сможет печатать чипы с топологическими нормами от 350 нм вплоть до нескольких нанометров.
Создание первого опытного образца займет около 3 лет. Однако путь от прототипа до серийного промышленного производства займет еще больше времени – оборудованию предстоит долгая отладка на стабильность.
📌 Кстати, отечественная микроэлектроника активно движется вперед: совсем недавно, в марте 2026 года, ученые РАН уже представили опытный стенд источника излучения для литографии на 11,2 нм с использованием ксеноновой плазмы.
Российские разработчики анонсировали проект электронного литографа для производства микросхем. Теоретически, он способен обрабатывать кремниевые пластины в 3 тысячи раз быстрее традиционных однолучевых аналогов
🔹Ключевой элемент – мультикатод. Он не расщепляет один луч (как в классических схемах), а сразу генерирует множество параллельных электронных пучков. Деталь уже изготовили и успешно испытали.
🔹Эффективность. Такая конструкция позволяет снизить энергопотребление, упростить систему и потенциально удешевить саму установку.
🔹Техпроцесс. В перспективе литограф сможет печатать чипы с топологическими нормами от 350 нм вплоть до нескольких нанометров.
Создание первого опытного образца займет около 3 лет. Однако путь от прототипа до серийного промышленного производства займет еще больше времени – оборудованию предстоит долгая отладка на стабильность.
📌 Кстати, отечественная микроэлектроника активно движется вперед: совсем недавно, в марте 2026 года, ученые РАН уже представили опытный стенд источника излучения для литографии на 11,2 нм с использованием ксеноновой плазмы.